酸素強化水日記

Web制作は、基本的なことから始めましょう。

Web制作をはじめ、高度な表現をしたくなる傾向があります。高度な技術を使用してWebページには確かに魅力的に感じることができますが、ビジター（訪問者）に必要なのは知ってほしいことがわかることが目的です。どんなに高度であってもどのようなWebページか分からなくでは誰も閲覧しないようになるでしょう。そこでまず、表現したいことをわかりやすく、Web制作することが必要だと思います。
PC向けサイトなどでは、他のwebデザイナーの力を発揮する場面も少ないのかもしれませんが、タブレットは違いますね。独自のユーザーインターフェイスを持っているタブレットは、サイトのレイアウトも全く違うことになりますね。そこでここでwebデザイナーの力を発揮している場合は、タブレットのためのサイトですね。
JSRは、米国の半導体製造技術研究組合「SEMATECH」と共同で、EUVリソグラフィを用いて15nmハーフピッチのパターンが化学増幅型フォトレジスト(感光性樹脂)で形成できることを実証した。同成果の詳細は、米国フロリダ州マイアミ市で開催されるEUVリソグラフィ技術に関する国際会議「2011 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithgraphy」においてSEMATECHから発表された。

EUVの露光波長は13.5nmであり、現在の先端プロセス向けのArF露光装置(波長193nm)と比べ、高い解像度を実現できることから、プロセスの微細化ルールが32nm、28nm、22nmと進む現在、実用化への期待が高まってきている。しかし、現在、一般的に使用されている化学増幅型フォトレジストでは、感度は優れるものの、解像度においては19nmハーフピッチがこれまでの最も微細なパターンであった。

今回、JSRでは、露光によって発生する酸の拡散による解像度低下という化学増幅型フォトレジストの問題に対して、酸の拡散挙動の制御をはじめとする精密な材料設計を行うことで、15nmハーフピッチの解像が可能なEUV用化学増幅型フォトレジストを開発した。

なお、15nmハーフピッチのパターン形成については、非化学増幅型フォトレジストを用いた結果が、2011年春開催のリソグラフィ分野の国際学会「SPIE Advanced Lithography 2011」にて発表されているが、今回開発されたフォトレジストと比較して感度が1/2以下と低いことが実用上の課題であったという。

なお、同社では、フォトレジストを中心としたEUVリソグラフィ技術に最適な材料群の開発を積極的に進め、高品質で高性能な製品を世界市場に供給することで、半導体業界のニーズに対応していくとコメントしている。

[マイコミジャーナル]

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愛知医科大学の小西裕之准教授を中心とする研究グループは、遺伝性乳がんの責任遺伝子であるBRCA1がん抑制遺伝子の異常により乳がんが発生するメカニズムの一端を解明した。これにより、将来的に遺伝性乳がんの治療法選択の開発などにつながる可能性があるという。同成果は、米科学雑誌「米国科学アカデミー紀要」に掲載された。

ヒトはそれぞれの遺伝子を2本ずつ持っているが、遺伝性乳がんの患者(女性保因者)の約3割は、BRCA1遺伝子の片方が生まれつき変異によって機能を喪失している。しかしもう一方のBRCA1遺伝子が正常なため、女性保因者は健常人と何ら違いなく誕生し成長していく。

女性保因者から乳がんが発生するきっかけは、ある乳腺細胞から正常なBRCA1遺伝子が偶発的に失われ、同遺伝子を完全に喪失する結果、細胞ががん化へ向かうことだと考えられていた。しかし、研究グループがヒト培養細胞の遺伝子を試験管内で改変する「ヒト細胞遺伝子ターゲッティング法」などを用いて解析した結果、女性保因者の乳腺細胞は、BRCA1遺伝子の一方だけに変異がある状態でもがん細胞に似た性質を持つことが明らかとなった。

具体的には、放射線などによる遺伝子障害を修復する能力が低下しており、その結果、放射線への強い感受性やゲノム不安定性を示していることが確認されたという。このことは、女性保因者の乳腺細胞すべてにがんの「きざし」があることを意味しており、今後の遺伝性乳がんの治療法選択に影響を及ぼす可能性があると考えられると研究グループでは説明している。

[マイコミジャーナル]

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東京エレクトロン デバイス(TED)は10月20日、Linear TechnologyのDC/DC μModuleポイントオブロード(POL)レギュレータIC「LTM4601」を搭載した評価用低ノイズ小型電源モジュール「TD-BD-LTM4601LNシリーズ」を自社開発製品ブランド「inrevium」製品として発売したことを発表した。価格は1枚あたり1万円。

組込機器の開発現場では、機器の高機能化、高性能化と短TAT化の二律背反する課題が求められ、電源に関しても同様の課題が突きつけられるようになっている。しかし、FPGAやCPUなどの微細化によるコア電圧1Vや0.9Vなどに低下したものの、周辺は3.3Vや5Vといったように、複数の電圧への対応が求められるようになっているほか、大電流、高精度への対応が求められるようになっている。しかも、電源仕様は基板設計の終盤になるまで確定しないため、回路設計者は限られた時間とスペースでの高度な電源回路の設計が求められるようになってきている。

同製品は、抵抗、コンデンサなどの周辺部品の選定やレイアウトが完了しているほか、前後段にフィルタを配置することで従来品比で80%程度のノイズ抑制を果たしており、1V・12A出力時に平均6mVの低リップルノイズを実現した評価用電源モジュールとなっている。サイズは50mm×36mm×10mmで、標準コネクタを搭載しているため、基板の省スペース化と迅速な評価環境の構築が可能であるため、開発期間の短縮を図ることが可能なほか、モジュールとしての提供のため、今まで複数電源を配置する際に難しかった等長配線も行えることから、FPGAで要求されるPOLを容易に実現することが可能だ。

また、サイバネットシステムによるEMI(EMI:Electro Magnetic Interference)検証の実施により、1GHzまでの周波数領域において-20dB以下が実現されているほか、最大6枚の並列搭載(最大72A)により、平面に回路を実装した場合に比べ、同面積で4回路分を実装することが可能となっている。

さらに、標準コネクタを搭載しているため、ユニバーサル基板での実装が可能だ。また、Linearが提供しているシミュレータ「LTspice IV」上で動作するモジュールとしての回路モデルをビー・テクノロジーの協力のもと開発、これを用いることで、並列接続や電源シーケンスの設定を容易に行えうことが可能となっている。

なお、同社では大規模FPGAやCPUなどの、POLを必要とする電源回路設計者向けの初期設計評価用モジュールとして、半年で1,000個を販売する予定としているほか、マニュアルにリファレンスとしての活用を想定した回路図やパターン図なども添えて提供するとしている。

[マイコミジャーナル]

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